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簡(jiǎn)要描述:在封閉腔室中,放置陽(yáng)極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽(yáng)極和陰極之間加載高壓,會(huì )發(fā)生輝光放電現象。電離的氣體離子會(huì )轟擊、侵蝕陽(yáng)極靶材。靶材原子會(huì )因此向四周擴散,在磁力的束縛下在一定范圍內沉積,最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產(chǎn)率,從而改善掃描電鏡觀(guān)察效果。
產(chǎn)品分類(lèi)
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品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 面議 |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 能源,電子,電氣 |
為了使電子顯微鏡中的樣品能夠成像,它們需要有導電性,通過(guò)在樣品上形成導電層的鍍膜,用來(lái)抑制電荷,減少熱損傷,并提高在SEM中定位檢查所需的二次電子信號。
磁控濺射儀的測試原理:在封閉腔室中,放置陽(yáng)極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽(yáng)極和陰極之間加載高壓,會(huì )發(fā)生輝光放電現象。電離的氣體離子會(huì )轟擊、侵蝕陽(yáng)極靶材。靶材原子會(huì )因此向四周擴散,在磁力的束縛下在一定范圍內沉積,最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產(chǎn)率,從而改善掃描電鏡觀(guān)察效果。
平時(shí)使用時(shí),最常見(jiàn)靶材的是金靶。正是這個(gè)原因,離子濺射儀也俗稱(chēng)“噴金儀"。然而,為了獲得更細小的晶粒尺寸、更薄的連續鍍層,有時(shí)候也會(huì )使用其他靶材(比如鉻、鉑金、銅)。
產(chǎn)品概覽
磁控濺射儀的產(chǎn)品特點(diǎn)
樣品腔尺寸:圓柱形,直徑150mmx高度120mm;
樣品腔真空度:極限真空度:<0.1Pa,工作真空度:0-10Pa,恒壓控制;
樣品臺:可以裝載樣品8-15個(gè),高度可調范圍為40mm;
靶材:Au靶為標配,Pt,Cu(選件)規格:直徑57mmx0.1mm厚;
濺射電流:微處理器控制,安全互鎖,可調,最大電流200mA,程序化數字控制;
濺射頭:低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環(huán)繞暗區護罩;
真空計:皮拉尼真空計,測量范圍:0.01Pa-常壓;
真空泵:雙級直連式高速真空泵,抽速:66L/min,真空度:10-2Pa;
厚度監控:使用高分辨厚度監控儀,精確測定所鍍膜的厚度;(選配)
操作方式:觸摸屏控制,手動(dòng)和自動(dòng)模式可選,操作簡(jiǎn)便;
機箱設計:長(cháng)寬高40*35*50cm,堅固防腐蝕的箱體,帶有電源、電壓、電流、真空度等顯示。
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